แท่งซิลิคอนออกซิเจน-ต่ำสำหรับการทำเอพิแทกซีและการพิมพ์หินขั้นสูง

แท่งซิลิคอนออกซิเจน-ต่ำสำหรับการทำเอพิแทกซีและการพิมพ์หินขั้นสูง

ผลิตขึ้นโดยเฉพาะสำหรับแพลตฟอร์มเวเฟอร์ที่พร้อมใช้อีพิแท็กซี- แท่งซิลิคอนออกซิเจนต่ำ-นี้ลดการตกตะกอนของออกซิเจนให้เหลือน้อยที่สุด ป้องกันความเครียดของผลึกในระหว่างการเติบโตของอีพิแทกเซียลของ CVD ความเข้มข้นของออกซิเจนที่ควบคุมได้ปรับปรุงพฤติกรรมการได้รับ เพิ่มผลผลิตของอุปกรณ์สำหรับชิปลอจิกระดับนาโน หน่วยเร่งความเร็ว ASIC และโปรเซสเซอร์ประมวลผล AI ให้ความเสถียรที่โดดเด่นในสภาพแวดล้อมพลาสมาพลังงานสูง-และห้องออกซิเดชันความร้อน รองรับทั้งระบบเตาเผาแบบแบทช์และ-ระบบ RTP เวเฟอร์เดี่ยว ความสม่ำเสมอของไดอิเล็กทริกและความเรียบของแผ่นเวเฟอร์ที่ยอดเยี่ยมของแท่งโลหะทำให้มีความทนทานต่อการจัดตำแหน่งที่ละเอียดยิ่งขึ้นสำหรับการพิมพ์หินขั้นสูง รวมถึงโหนดที่ใช้ EUV- เหมาะสำหรับโรงงานที่ดำเนินการระยะยาว-การโยกย้ายไปสู่การประมวลผลที่ต่ำกว่า 3 นาโนเมตร

ป้ายกำกับยอดนิยม: แท่งซิลิกอนออกซิเจน-ต่ำสำหรับการทำ epitaxy และการพิมพ์หินขั้นสูง ประเทศจีน-แท่งซิลิกอนออกซิเจนต่ำสำหรับการทำ epitaxy และการพิมพ์หินขั้นสูง ซัพพลายเออร์ โรงงาน