พื้นผิวซิลิคอน Epitaxy

พื้นผิวซิลิคอน Epitaxy

สารตั้งต้น epitaxy ของซิลิคอนเหล่านี้มีความพิถีพิถันออกแบบมาเพื่อการเจริญเติบโตของชั้นเยื่อบุผิวซึ่งทำหน้าที่เป็นเทมเพลตผลึกที่มีความบริสุทธิ์สูง-สำหรับการรวมอุปกรณ์ Power และ Logic ขั้นสูง ออกแบบโดยใช้การดึง Czochralski (CZ) ที่มีความแม่นยำและลำดับการขัดเงาที่สะอาดเป็นพิเศษ- วัสดุพิมพ์ของเรารับประกันสภาพแวดล้อมพื้นผิวที่ดีเยี่ยม ความเรียบระดับอะตอม-นี้เป็นข้อกำหนดพื้นฐานในการบรรลุ-การสะสมแบบโฮโมอีพิแอกเซียลและเฮเทอโรอีพิแอกเซียลคุณภาพสูงในเซมิคอนดักเตอร์รุ่นต่อไป

ปรับพื้นผิวให้เหมาะสมเพื่อการตกตะกอนคุณภาพสูง-:ที่ควบคุมพื้นผิวและการวางแนวคริสตัลได้รับการปรับให้เหมาะสมเพื่อให้มีสภาพแวดล้อมการเกิดนิวเคลียสในอุดมคติ โดยเคร่งครัดในการปกครองปิด-มุมตัด(ความคลาดเคลื่อน) ด้วยความแม่นยำระดับมิลลิองศา เราส่งเสริมขั้นตอน-กลไกการเติบโตที่ไหลลื่น วิธีนี้จะช่วยลดความไม่ตรงกันของโครงตาข่ายและป้องกันการก่อตัวของความผิดพลาดในการซ้อนและการเคลื่อนตัวของเกลียว ซึ่งจำเป็นสำหรับการรักษาเสถียรภาพคุณลักษณะทางไฟฟ้าของเลเยอร์ epi- ที่ตามมา

ความต้านทานที่ควบคุมสำหรับการแยกอุปกรณ์:ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการใช้งาน Power IC และแอนะล็อก โดยมีวัสดุพิมพ์เหล่านี้คุณสมบัติของวัสดุที่มั่นคงด้วยโปรไฟล์เจือปนที่สม่ำเสมอสูง ซึ่งช่วยให้สามารถควบคุมอินเทอร์เฟซของซับสเตรต-ถึง- epi ได้อย่างแม่นยำ เพิ่มการแยกอุปกรณ์ และลดความจุของปรสิตในสภาพแวดล้อมที่มีความถี่สูง-และแรงดันไฟฟ้าสูง-

ความยืดหยุ่นทางความร้อนที่มีความบริสุทธิ์สูง-:สารตั้งต้นแต่ละชนิดอยู่ภายใต้การควบคุมโดยพิกัดความเผื่อที่เข้มงวดสำหรับออกซิเจนและสิ่งเจือปนที่เป็นโลหะเพื่อป้องกัน-สารเติมอัตโนมัติและการบิดเบี้ยวที่เกิดจากความร้อน ความแข็งแรงทางกลที่เหนือกว่ารองรับขั้นตอนการประมวลผลหลายขั้นตอนโดยมีการเปลี่ยนแปลงน้อยที่สุดโดยรักษาความเที่ยงตรงทางเรขาคณิตในระหว่างรอบ- CVD ที่อุณหภูมิสูง (การสะสมไอสารเคมี) และรอบการประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็ว (RTP)

ป้ายกำกับยอดนิยม: พื้นผิว epitaxy ซิลิคอน ประเทศจีนผู้ผลิตพื้นผิว epitaxy ซิลิคอน ซัพพลายเออร์ โรงงาน