แกนเวเฟอร์ซิลิคอน

แกนเวเฟอร์ซิลิคอน

โซลูชันเวเฟอร์ซิลิคอนของเราได้รับการออกแบบจากระดับอะตอมโดยใช้ขั้นสูงโซคราสกี้ (CZ)และโซนลอยน้ำ (FZ)วิธีการเติบโตของผลึกเพื่อให้แน่ใจว่าโครงสร้างขัดแตะ-บริสุทธิ์และไม่มีข้อบกพร่อง-เป็นพิเศษ รองรับอุตสาหกรรมครบวงจรตั้งแต่2 นิ้ว (50 มม.) ถึง 12 นิ้ว (300 มม.)สารตั้งต้นเหล่านี้ทำหน้าที่เป็นโฮสต์-ความสมบูรณ์สูงสำหรับการเจริญเติบโตของเอพิแทกเซียลที่ซับซ้อนและการฝังไอออนขนาดสูง-

เรารักษาเกณฑ์ที่เข้มงวดสำหรับปริมาณออกซิเจนและคาร์บอนคั่นระหว่างหน้า ซึ่งมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการรับประกันเสถียรภาพทางความร้อนและป้องกันการตกตะกอนในระหว่างรอบการอบอ่อนแบบสุญญากาศที่มีความผันผวนสูงที่สุด- โดยการเพิ่มประสิทธิภาพความเรียบเฉพาะระดับสากลและไซต์- (TTV และ SFQR)เวเฟอร์ของเราอำนวยความสะดวกในการขยายความลึก-ของ-โฟกัส (DOF) ในการพิมพ์หินด้วยแสงขนาดไมครอนขั้นสูง- ซึ่งสัมพันธ์โดยตรงกับการเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญในผลผลิตขั้นสุดท้ายของอุปกรณ์ของคุณ

ป้ายกำกับยอดนิยม: แกนเวเฟอร์ซิลิคอน ผู้ผลิตแกนเวเฟอร์ซิลิคอน ซัพพลายเออร์ โรงงาน