พื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอน

พื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอน

พื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอนเกรดเซมิคอนดักเตอร์ของเรา-ได้รับการออกแบบอย่างพิถีพิถันเพื่อประสิทธิภาพสูงสุดในการ-บูรณาการที่มีความหนาแน่นสูง วัสดุพิมพ์ทุกชิ้นต้องผ่านหลายขั้นตอน-การขัดเงาด้วยสารเคมี (CMP)กระบวนการเพื่อให้บรรลุระดับความหยาบผิวของอังสตรอม- (Ra)และความเรียบของโลกที่เหนือกว่า เพื่อให้แน่ใจว่าเวเฟอร์พร้อมสำหรับการพิมพ์หินขนาดไมครอนที่มีความต้องการสูงสุด-และการสร้างรูปแบบที่มีความละเอียดสูง-

ข้อดีทางเทคนิค:

ความสมบูรณ์ของพื้นผิวอย่างแน่วแน่:พื้นผิวขัดเงาคุณภาพสูง-ปราศจากรอยขีดข่วนขนาดเล็ก-และรูพรุน จึงเป็นรากฐานที่บริสุทธิ์ซึ่งจะลดความหนาแน่นของข้อบกพร่องให้เหลือน้อยที่สุดระหว่าง-การสะสมของฟิล์มบาง (CVD/PVD)

ความสม่ำเสมอทางไฟฟ้า:เรารับประกันคุณลักษณะทางไฟฟ้าที่สม่ำเสมอ-รวมถึงการควบคุมความต้านทานที่แม่นยำและความคล่องตัวของตัวพา-ทั่วทั้งพื้นผิวเวเฟอร์ทั้งหมด ตั้งแต่ขนาดดั้งเดิม 2 นิ้วไปจนถึงซับสเตรตขั้นสูง 12 นิ้ว

ความเข้ากันได้ของกระบวนการขั้นสูง:ออกแบบมาเพื่อรองรับการตัด-การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ขอบ พื้นผิวของเราให้การยึดเกาะที่ดีเยี่ยมสำหรับตัวต้านทานแสงและความเสถียรสูงในระหว่างการเติบโตของเยื่อบุผิวที่ซับซ้อน

ความน่าเชื่อถือทางอุตสาหกรรม:สร้างขึ้นสำหรับแอปพลิเคชันประสิทธิภาพสูง-ในอุปกรณ์ไฟฟ้า (IGBT/MOSFET), ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ RF และ MEMSเวเฟอร์ขนาด 2-12" ของเรารับประกันผลลัพธ์การผลิตที่มั่นคงและให้ผลผลิตสูงสำหรับโรงงานระดับโลก

ป้ายกำกับยอดนิยม: พื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอน ผู้ผลิตพื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอน ซัพพลายเออร์ โรงงาน